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The Swiss trademark ANGSTROM ENGINEERING was filed as Word mark on 03/23/2022 at the Swiss Federal Institute of Intellectual Property.
It was registered as a trademark on 11/01/2022.
The current status of the mark is "Trademark registered".
| Application date | March 23, 2022 |
| Publication date | November 1, 2022 |
| Entry date | November 1, 2022 |
| Expiration date | March 23, 2032 |
Trademark owner
91 Trillium Drive
N2E 1W8 Kitchener, Ontario
CA
Trademark representatives
Thunstrasse 63, Postfach 371
3000 Bern 6
CH
goods and services
1
Materialien, nämlich Erdalkalimetalle, Alkalimetalle, Nichtmetalle, Keramikpartikel, Keramikverbindungen, Oxide, Nitride, organische Verbindungen und Polymere, die in Depositionssystemen zur Erzeugung dünner Schichten für Anwendungen in der Halbleitertechnik, Optik und Nanotechnologie verwendet werden
7
Vakuumgeräte und -systeme, bestehend aus Vakuummaschinen und Vakuumpumpen, die für die Abscheidung, das Ätzen und die Reinigung von Dünnschichten verwendet werden; Komponenten von Abscheidungssystemen, die Teile von Abscheidungsmaschinen sind, nämlich Komponenten von Abscheidungssystemen, nämlich Substrattische, Halterungen und Träger, thermische Verdampfungsquellen, nämlich Abscheidungsboote, Abscheidungsfilamente und -tiegel, Magnetron-Sputterquellen, Elektronenstrahlverdampfer, Nanopartikelgeneratoren, Ionengeneratoren, Ionenbeschleuniger, Generatoren für geladene Teilchen zur Materialbeschichtung und Oberflächenmodifizierung, Arme und Roboter für die Probenhandhabung, Schleusenkammern, Geräte zur Messung der Dünnschichtdicke, optische Messgeräte, Geräte für die Zufuhr und Reduzierung von Prozessgas, Vakuumventile, Vakuumpumpen und Pumpensysteme; Vakuumgeräte und -systeme, bestehend aus Vakuummaschinen und Vakuumpumpen zur Verwendung in kontrollierten Umgebungen und in der Weltraumsimulation; physikalische und chemische Gasphasenabscheidungsmaschinen für Sputterdeposition, Elektronenstrahlverdampfung, thermische Verdampfung, Ionenstrahldeposition, Ionenstrahlsputterdeposition, ionenunterstützte Deposition, gepulste Laserdeposition, Atomlagenabscheidung
40
Kundenspezifische Herstellung von Systemen, nämlich Maschinen, für die physikalische und chemische Gasphasenabscheidung auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden; kundenspezifische Herstellung von Vakuumgeräten und -systemen, nämlich Maschinen, für die Abscheidung, das Ätzen und die Reinigung von Dünnschichten auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden; kundenspezifische Herstellung von Vakuumgeräten und -systemen, nämlich Maschinen, für die kontrollierte Umgebung und die Weltraumsimulation auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden
42
Ingenieurdienstleistungen im Bereich physikalischer und chemischer Dampfabscheidungssysteme; Ingenieurdienstleistungen im Bereich von Vakuumausrüstungen und -systemen, die für die Abscheidung, das Ätzen und die Reinigung von Dünnschichten verwendet werden; mechanische und chemische Ingenieurdienstleistungen; Ingenieurdienstleistungen im Bereich von Vakuumausrüstungen und -systemen, die für die Simulation in kontrollierter Umgebung und im Weltraum verwendet werden; kundenspezifischer Entwurf und kundenspezifische Entwicklung von Systemen für die physikalische und chemische Gasphasenabscheidung auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden; kundenspezifischer Entwurf und kundenspezifische Entwicklung von Vakuumgeräten und -systemen für die Abscheidung, das Ätzen und die Reinigung von Dünnschichten auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden; kundenspezifischer Entwurf und kundenspezifische Entwicklung von Vakuumgeräten und -systemen für die kontrollierte Umgebung und die Weltraumsimulation auf Bestellung und nach Vorgaben eines Kunden
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| November 1, 2022 | 2022110105 | M00 | Registration |
ID: 121207128358